VGF單晶爐
VGF單晶爐主要用于砷化鎵、銻化鎵、鍺等化合 PAN S 物半導體材料的單晶生長。
VTM碲鋅鎘單晶體生長爐
碲鋅鎘單晶爐是依據(jù)我公司自主研發(fā)的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱系統(tǒng)、運動系統(tǒng)支撐機構、電控系統(tǒng)四部分組成，適用碲鋅鎘、碲化鎘、銻化鎵等多種化合物半導材料的單晶生長。
多晶合成爐
多晶合成爐主要用于GaAs、CdTe等多種化合物材料的多晶合成工藝。
氧化物單晶生長爐
可用于“第四代”半導體單晶材料，氧化鎵Ga2O3等氧化物材料晶圓的生長制造。
真空鍍碳爐
臥式管狀加熱爐主要應用在半導體晶體材料的生長工藝過程中，對石英坩堝內壁鍍碳處理，能夠有效阻隔高溫溶體與石英坩堝的反應，有利于完整、高質量單晶體的生產。
電子束蒸發(fā)鍍膜機
電子束蒸發(fā)鍍膜機可蒸鍍金屬薄膜、介質薄膜、光學薄膜。如在半導體或融石英、微晶玻璃基片上蒸鍍MgF2等介質薄膜，MgF2蒸發(fā)厚度為10-150nm，在10^4Pa高真空時鍍鋁的厚度為5-3000nm，膜層結合力良好，表面呈銀白色。蒸發(fā)速率穩(wěn)定。具有一定的小批量生產能力。設備運行穩(wěn)定、可靠，能夠連續(xù)24小時工作。該設備所有零部件是全新產品，技術成熟，操作直觀簡便，設備易于維護和維修。
